紫外光刻机

该仪器为紫外光刻机，一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、旋涂、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。 Photolithography（光刻）是用光来制作一个图形（工艺）； 在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶或将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

位置 B124

负责人：吴小峰